Growth of epitaxial γ-Al2O3(111) films using an oxidized Si(111) substrate
- S. W. Whangbo
- , Y. K. Choi
- , K. B. Chung
- , Y. D. Chung
- , W. S. Koh
- , H. K. Jang
- , H. W. Yeom
- , K. Jeoung
- , S. K. Kang
- , D. H. Ko
- , C. N. Whang
- Yonsei University
Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
9
Scopus
citations